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Projekte
Selektiver und schädigungsarmer Laserabtrag von Schichtsystemen auf optischen Bauelementen – SelektLas
Bei Punkt- oder flächigen Fehlern in der Beschichtung hochwertiger Optiken müssen diese abgetragen und die Beschichtung repariert oder ersetzt werden. Bisher angewandte nasschemische Abtragsverfahren basieren jedoch oft auf Einsatz giftiger Chemikalien und erfordern oft einen vollständigen Schichtabtrag, während mechanische Verfahren meist nur auf planen Oberflächen anwendbar sind. Projektziel ist die Prozessentwicklung für einen schädigungsarmen, ortsoptimierten Abtrag durch Ultrakurzpulslaser. Hierfür sollen simulative Ansätze, experimentelle Untersuchungen und In situ-Messtechnik zur Parameter-Optimierung genutzt werden.
Motivation
In der modernen Fertigungstechnik stellt die Verwendung von Laserstrahlung bereits ein unverzichtbares Präzisionswerkzeug dar, das insbesondere durch einen berührungslosen selektiven Energieeintrag und hohe Automatisierbarkeit gekennzeichnet ist. Besonders im Bereich der Hochleistungsoptiken (Linsen, Spiegel oder andere optische Bauelemente), etwa für die EUV-Lithografie oder Ultrakurzpulslaser-Anwendungen, gelten extrem hohe Anforderungen an die verwendeten Schichten sowie an das Substrat, u.a. hinsichtlich der Homogenität und der Oberflächenqualität. Da die Herstellung der Substrate ohne Beschichtung bereits äußerst aufwendig und kostenintensiv ist, führen Defekte in der Beschichtung, z.B. durch Prozessfehler, Alterung oder unsachgemäße Anwendung zu einem erheblichen wirtschaftlichen Problem, da das gesamte Bauteil unbrauchbar wird.
Die aktuelle Praxis zur Rückgewinnung dieser wertvollen Substrate ist jedoch technologisch eingeschränkt. Derzeit dominieren mechanische und nasschemische Verfahren. Letztere verwenden jedoch häufig giftige Reagenzien, belasten daher die Umwelt und sind insbesondere für einzelne optische Elemente oft unwirtschaftlich. Zudem agieren diese Prozesse häufig nicht selektiv und entfernen meist das gesamte Schichtsystem, statt gezielt nur einzelne Schichten. Mechanische Verfahren erfordern hingegen hochpräzise und teure Spezialmaschinen sowie eine lückenlose Qualitätskontrolle, um die strengen Vorgaben an Oberflächenrauheit und Formgenauigkeit einzuhalten, da nur das Schichtsystem entfernt werden darf und das Substrat unverändert bleiben soll. Besonders bei komplexen Geometrien wie asphärischen Linsen oder Freiformflächen stoßen diese mechanischen Methoden an ihre wirtschaftlichen und technischen Grenzen.
Als alternatives Verfahren soll daher ultrakurz gepulste Laserstrahlung verwendet werden, da sie aufgrund der genannten Eigenschaften deutliche Vorteile gegenüber den etablierten Verfahren bietet.
Ziele
Das Forschungsvorhaben verfolgt das übergeordnete Ziel, ein industrietaugliches Verfahren auf Basis von Ultrakurzpulslasern (UKP) zu entwickeln, um Beschichtungen auf optischen Bauteilen präzise und selektiv abzutragen. Hierbei sollen folgende konkrete Zielsetzungen erfüllt werden:
- Technologische Präzision und Selektivität
Das Verfahren soll für die Bearbeitung komplexer Schichtsysteme mit bis zu 20 Lagen und Schichtdicken von wenigen Nanometern bis zu mehreren Mikrometern optimiert werden. Dabei sollen die Schichten zuverlässig entfernt, eine Schädigung des Substrats vermieden sowie die thermische oder mechanische Belastung minimiert werden. - Geometrische Flexibilität und Skalierbarkeit
Ein Fokus liegt auf der Bearbeitung anspruchsvoller Geometrien wie Asphären und Freiformflächen, da sie einen besonders hohen Wertschöpfungsfaktor aufweisen. Weiterhin ist für diese Bauteile eine mechanische Bearbeitung mittels konventioneller Verfahren kaum möglich. Nach der erfolgreichen Durchführung auf kleinen Flächen soll das Verfahren für große Flächen durch den Einsatz von Laserstrahlungsquellen mit Burstcharakteristik skaliert werden, um u.a. die Wirtschaftlichkeit zu gewährleisten. - Qualitätssicherung für die Wiederbeschichtung
Durch den selektiven und schädigungsarmen Laserabtrag soll die Rauheit der Oberfläche des Substrats nicht verändert und auch Spannungen innerhalb des Substrats sollen vermieden werden. Dadurch sollen die Substrate ohne aufwendige Nachbehandlung erneut beschichtet werden können. - Wirtschaftliche und ökologische Ziele
Durch die Wiederverwendung teurer Substrate soll die Ausschussrate in der Optikfertigung deutlich reduziert und damit die Ressourceneffizienz und Wirtschaftlichkeit erhöht werden. Durch den vollständigen Ersatz umweltschädlicher nasschemischer Prozesse und giftiger Reagenzien werden Kosten und Umweltbelastung reduziert und die Nachhaltigkeit erhöht. Weiterhin können die gewonnenen Erkenntnisse zum selektiven Abtrag für andere Verfahren wie die Erstellung von Masken, Teilungsbildern oder anderen Geometrien auf optischen Bauelementen verwendet werden.
Projektpartner
Forschungseinrichtungen
Ernst-Abbe-Hochschule Jena, AG Bliedtner
Projektbegleitender Ausschuss
- 3D-Micromac AG
- ACM Coatings GmbH
- Bühler Alzenau GmbH
- Carl Zeiss Jena GmbH
- Coherent Kaiserslautern GmbH
- HOFBAUER OPTIK Mess- & Prüftechnik
- JENOPTIK Optical Systems GmbH
- LASER COMPONENTS Germany GmbH
- Light Conversion UAB
- n2-Photonics GmbH
- PRIMES GmbH
- SCHOTT Technical Glass Solutions GmbH
- TTI - Technologie-Transfer-Initiative GmbH an der Universität Stuttgart
Projektbeteiligte
Das IGF-Vorhaben der Forschungsvereinigung Feinmechanik, Optik und Medizintechnik e.V. (F.O.M.) wird dankenswerter Weise aufgrund eines Beschlusses des Deutschen Bundestages aus Mitteln des Bundesministeriums für Wirtschaft und Energie (BMWE) im Rahmen des Programms zur Förderung der Industriellen Gemeinschaftsforschung (IGF) im Zeitraum vom 01.12.2025 - 31.05.2028 gefördert.


